1月10日下午16点00分在力二楼215教室，澳大利亚伍伦贡大学岳增记研究员应邀为我院师生做题为“Topological insulator materials for advanced optoelectronic devices”的学术报告。报告会由我院胡衍雷副教授主持。
在报告会上，岳增记研究员给大家介绍了拓扑绝缘体材料及其在光电子领域的应用方面的内容。岳增记研究员从什么是拓扑绝缘体出发，介绍了拓扑绝缘体材料的特性以及目前广泛应用的一些拓扑绝缘体材料，并分析目前发现的拓扑绝缘体相关的效应，引出利用拓扑绝缘体的超高折射率等优点将其应用在光学领域的新思路。随后，岳增记研究员结合自己的研究工作为大家介绍了将拓扑绝缘体材料与全息、轨道角动量以及光子晶体等方面相结合的应用，详细为大家讲述了拓扑绝缘体材料在各个不同方面应用具有的优势和发展前景。报告结束后，参会师生踊跃提问，岳增记研究员详细地做了解答。大家就拓扑绝缘体应用在全息上的相关细节和应用前景等问题展开了激烈讨论。
岳增记，研究员 (Research Fellow)，2014年博士毕业于澳大利亚伍伦贡大学超导与电子材料研究所，师从杰出教授王晓临与澳大利亚工程院院士窦士学。2014年底加入澳大利亚科学院与工程院院士，中国工程院外籍院士顾敏课题组，在斯威本科技大学与皇家墨尔本理工大学，开展了基于拓扑材料的先进光电子器件研究。在此期间，报告人在拓扑材料中发现了许多新奇和优越的光学特性，包括可见波段表面等离子体效应、近红外波段超高折射率、光学共振腔等等。他利用这些独特电、光学特性设计制备了一系列先进的光电子器件，包括超薄的光电压器件，超薄透镜，纳米级厚度的全息片，可与CMOS集成的光子角动量度量器件等。近几年，报告人在国际著名期刊发表了多篇优秀论文，包括以第一作者发表了2篇Nature Communications和1篇Science Advances等。报告人还多次在国际光学与材料会议上做邀请报告，并被Wiley出版社邀请参与撰写了《Advanced topological insulator》一书。他的研究成果获得了国际同行的积极评价与大众媒体的广泛关注，对拓扑材料在纳米光电子领域的应用做出了重要贡献。